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          平面拋光機廠家
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          簡單說說平面拋光機的拋光原理

          來源:新創勝機械  時間:2019-09-29  點擊數:

            平面拋光機是在物體表面上的拋光的一種工具,拋光分為粗拋,半精拋,精拋。下面,我們一起來看看平面拋光機的拋光原理吧。

            平面拋光的作用是使工件外面粗拙度低落,以獲得光明、平坦外面。平面拋光機其機理應該分別是三種結合,因為在平面拋光機在工作過程時會化學作用、機械磨削、表面流動的理論。

          平面拋光機

            1、化學作用理論

            在拋光過程時,工件表面,拋光劑,拋光模和水的作用下,發復雜的化學過程。如,光學玻璃表面發生水解過程,或者硬脆性材料發生化學腐蝕過程。

            2、機械磨削理論

            拋光是繼研磨之后的工作,其兩者本質相關不大。都是通過尖硬的磨料顆粒對工件表面進行細微切削作用的結果。但拋光用的磨料對于研磨的磨料顆粒更加細微的拋光劑,微小的切削可以在分子大小范圍內進行。拋光模與工件表面吻合相當,拋光時切向力較大,從而使工件表面凹凸的微裂結構被磨切掉,就形成了工件光滑的表面。

            3、表面流量理論

            工件表面由于高壓和相對運動,摩擦生熱致使表面產生塑性的流動,凸起部分會凹下部分填平,形成光滑的拋光表面。分別有兩種理論:

            (1)是根據拋光表面用金鋼石劃成圖案,然后拋掉,而再用酸腐蝕后圖案劃痕再現。

            (2)是由拋去厚度計算的拋去重量比實測的大得多,于是就認為拋光的質量填到表面凹凸層的谷部。由此說明流動作用的覆蓋。

            綜上所述,平面拋光機的拋光過程是極其復雜的,至今也沒有完善統一的結論。以上據說的理論化學作用是必須的,而機械理論是基本的,表面流動理論也存在一定的可能性。

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